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直接耐曬黑G
時刻: 2018-10-23 09:26
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直接耐曬黑G（CAS：6428-31-5）的原料有間苯二胺、對硝基苯胺、H酸，首先將對硝基苯胺重氮化，再在弱酸性介質中與H酸進行第一次偶合。然后于弱堿性條件下與H酸進行第二次偶合。再用
直接性耐曬黑G（CAS：6428-31-5）的主要原料有間苯二胺、對硝基苯胺、H酸，首要將對硝基苯胺重氮化，再在弱偏堿有機溶劑中與H酸做好1次偶合。其次于弱偏堿水平下與H酸做好第2次偶合。繼續使用混煉堿對硝基還原成，基本原則氮化，與間苯二胺做好第四次偶合得生成物。經鹽析，過慮，吹干，破碎得的成品。
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